場發(fā)射掃描電子顯微鏡的主要功能用途了解下
更新時間：2024-07-01
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掃描電子顯微鏡具有辯率高、景深大、成像立體感強的特點，能同時分析形貌和成分，可用于形貌觀察、顯微結(jié)構(gòu)分析、微區(qū)成分分析、斷口形貌和成分分布分析等，還可進行樣品的原位動態(tài)觀察和特定環(huán)境實驗，在材料、納米科學(xué)、地質(zhì)、礦產(chǎn)、冶金、機械、化學(xué)、化工、物理、電子、生物、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域都有廣泛的用途。
場發(fā)射掃描電鏡是一種高分辨率的電子顯微鏡技術(shù)，可用于觀察樣品表面的微觀結(jié)構(gòu)。它使用場發(fā)射電子源產(chǎn)生高能電子束，并通過透鏡系統(tǒng)將電子聚焦到樣品表面上。樣品與電子束相互作用后，產(chǎn)生的反射、散射和二次電子等信號被收集并轉(zhuǎn)換成圖像。
掃描電子顯微鏡以電子束為光源，以光柵式掃描方式將精細聚焦的電子束照射到樣品上。二次電子、背散射電子等。電子與樣品之間相互作用所產(chǎn)生的電子然后被收集和處理，以獲得顯微形貌的放大圖像。
主要功能用途：
場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FESEM)具有高分辨率，能做各種固態(tài)樣品表面形貌的二次電子像、反射電子像觀察及圖像處理。
具有高性能X射線能譜儀，能同時進行樣品表層的微區(qū)點線面元素的定性、半定量及定量分析，具有形貌、化學(xué)組分綜合分析能力。
場發(fā)射掃描電子顯微鏡的原理是利用二次電子或背散射電子成像，對樣品表面放大一定的倍數(shù)進行形貌觀察，同時利用電子激發(fā)出樣品表面的特征X射線來對微區(qū)的成分進行定性定量分析，是我們材料研究分析中一雙亮麗的“眼睛”。
掃描電鏡按照電子槍分類可以分為鎢(W)燈絲、六硼化鑭(LaB6)燈絲、場發(fā)射(FieldEmission)三種，場發(fā)射掃描電鏡相比于鎢燈絲、六硼化鑭，具有電子束斑小、高分辨率、穩(wěn)定性好等特點。
場發(fā)射掃描電子顯微鏡的優(yōu)點：
(1)有較高的放大倍數(shù)，20-30萬倍之間連續(xù)可調(diào)；
(2)有很大的景深，視野大，成像富有立體感，可直接觀察各種試樣凹凸不平表面的細微結(jié)構(gòu)；
(3)試樣制備簡單，目前的掃描電鏡都配有X射線能譜儀(EDS)裝置，這樣可以同時進行顯微組織形貌的觀察和微區(qū)成分分析。
